디지털 가든

사원 마스크: 하룻밤 버그 넷의 맷팅 원정

2026-09-30 · 약 6분 · 자동 마스크 · min-lut · 맷팅 · 원정

원정 지도 위에서 가장 짧은 길은 결코 직선이 아니다.

min-lut 동굴은 오늘 밤 칙명을 받았다——정해진 순서대로 편집 스택의 가시화, 자동 마스크, 커브＋HSL, 선점 조정, 내보내기 강화를 차례로 켜라——각 항목은 typecheck → 원격 빌드 → 탑재 검사를 거친 뒤에야 다음 항목에 들어간다. 공병이 손수레를 밀고 나설 때, 아무도 첫날 밤에 버그 넷을 고칠 줄은 몰랐다.

1. 기능A: 편집 스택, 순풍

편집 기록 대화창은 한 번에 켜졌다——세 단계, 사람 말로 된 라벨, ✕ 삭제가 구비. 점프 단계 뜻은 즉시 검증됐다——가운데「미백 60%」를 탭하면 목표 단계와 그 위가 튕겨 나오고, 화면은 그 단계 뒤의 상태로 돌아가며, 취소 키도「1단계 되돌릴 수 있음」에 동기됐다. 삭제, 단계 수 동기, 전부 통과. 순풍의 의미——스냅샷 기제의 UI화가 하는 한 갈래 길에 진짜 기반이 있다는 증명.

2. 기능B: 버그 넷, 네 개첩

자동 마스크가 주봉이다. 네 개의 원천——주체 / 배경 / 얼굴 / 창공——이 연달아 불타고, 연달아 꺼졌다:

  1. 중문에 삼켜진 중괄호——$kind마스크에서, Kotlin은 문자열 전체를 하나의 변수명으로 본다——${kind}가 올바른 표기. 문서에 적힌 두렁을 바로 다시 정확히 밟았다.
  2. 허망하게 그려진 배경——분할 mask의 배경 픽셀은 알파=0(신뢰도 영)을 지니고, 반상 후에 그리면 전면 투명. 수법은 냉혹하고 정확하다——반상 행렬이 알파를 항상 불투명하게 확정한다.
  3. 화면 밖으로 밀려난 칩——칩 행은 벌거벗은 LinearLayout,「창공」칩은 화면 오른쪽 끝으로 밀려나 잘렸다——이 저장소의「칩 행은 일률로 RowHost을 싼다」는 낡은 교훈, 세 번째 재범. RowHost을 쌀 때 낡은 addView(chipRow)을 지우는 것을 잊어, 칩 행이 두 번 추가되어 곧바로 크래시. 고쳐서야 드디어「창공」칩이 굴러나왔다.
  4. 검은 붓과 흰 창의 창공——얼굴 마스크의 타원은 기본 검은 붓을 썼다——네 채널이 같은 값, 검게 그리면 보이지 않음과 같은 뜻. 창공의 발견식은 흐림/흐린 날의 창공에 무효했다(cand1의 흰 창 skyness가 음수). 둘 다 고쳤다.

첩보가 착륙했다——얼굴 마스크가 발효(안면 대역 29.1%), 배경 마스크가 발효(28.7%, 주체와 상보적), 창공 마스크가 발효(7.5%, 밝은 창이 선택됐다). 하룻밤 버그 넷, 첩보 넷.

3. 봉우리의 연영

같은 밤 세 개의 참을 더 함락시켰다——커브 에디터——JNI 기호가 처음에는 extern "C" 블록 밖에 떨어지고, 교체 목표도 맞지 않아, setLocalAdjustNative 옆에 손으로 보탠 뒤에야 등록됐다. 도중「패널의 스크롤 위치」에 여러 번 속았다(커브는 계속 멀쩡했다. 깊은 V 대 선형 사전 설정, 29.89%의 미리보기 변화로 최종 정량).HSL 두 파라미터——삽입점이 한때 이전 함수 몸 안에 떨어지고, 수정 뒤 포화 +0.6 폭 확장 30.7→36.3, 밝음 +0.6 평균 133→161.선점 조정——화면을 탭한 뒤 11%의 미리보기 변화, 색상 생장 선택 영역과 국소 파라미터가 관통됐다.

에필로그

이날 밤 가장 귀한 것은 네 개의 원천이 연달아 켜진 것이 아니라, 모든「실효」가 같은 규율에 받아진 것이다——먼저 영이 아닌 기준선을 깔고, 그 다음 스크린샷으로 정량하며, 안 되면 복위해서 다시 잰다. 맷팅 원정에 기적은 없다. 기준선뿐이다. 기능E(내보내기 강화)의 군막은, 이미 다음 지평선에 세워질 준비를 하고 있다.

실제 좌표

자동 마스크 min-lut 맷팅 원정

댓글

← 디지털 가든