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四源のマスク：一夜四バグのマッティング长征

2026-09-30 · 約 5 分 · 自動マスク · min-lut · マッティング · 长征

遠征の地図上で最も短い路は、決して直線ではない。

min-lut の洞府は今夜、勅命を受けた——定められた次序どおりに、編集スタックの可視化、自動マスク、カーブ＋HSL、選点調整、書き出し增强を次々に点灯させる。各項、typecheck → 遠隔ビルド → 機上の検証を経て、初めて次の項へ入る。工兵が手押し車を押し出したとき、誰も初夜に四個のバグを直すとは思わなかった。

一、機能A：編集スタック、幸先よく

編集記録のダイアログは一発で点灯した——三段階、人間の言葉によるラベル、✕ 削除が揃う。跳段の意味はすぐ検証された——中間の「美白 60%」をタップすると、目標段とその上方が弾け落ち、画面はその段の後の状態に戻り、撤销キーも「1 段戻せる」に同期した。削除、段数同期、すべて通る。幸先よい意味——スナップショット機構の UI 化という路に、本物の地基があることの証明。

二、機能B：四個のバグ、四捷

自動マスクが主峰である。四個の源——主体 / 背景 / 人脸 / 空——が系って燃え、系って消された：

  1. 中文に饮み込まれた波括弧——$kindマスク で、Kotlin は文字列全体を一つの変数名と见なす——${kind} が正しい書き方。ドキュメントに书かれた坑を、また正确に踏んだ。
  2. 空虚に描かれた背景——分割 mask の背景ピクセルは alpha=0（信頼度ゼロ）を持ち、反相後に描けば全面透明。修法は冷酷かつ精确——反相行列が alpha を常に不透明に设定する。
  3. 画面外に押し出された chip——chip 行は裸の LinearLayout、「空」chip は画面右端に押し出され切り落とされた——この仓库の「chip 行は一律 RowHost で包む」という古い教训、三度目の再犯。RowHost を包む際に古い addView(chipRow) を消し忘れ、chipRow が二度追加され、直にクラッシュ。直してようやく「空」chip が転がり出てきた。
  4. 黒の筆と白窓の空——人脸マスクの楕円は既定の黒筆を使っていた——四チャンネルが同値、黒く描けば見えないと同義。空の启发式は白/曇天の空に失效した（cand1 の白窓 skyness は負）。両方直した。

捷报が着陆した——人脸マスクが発効（脸区 +29.1%）、背景マスクが発効（28.7%、主体と相補的）、空マスクが発効（7.5%、明窓が選ばれた）。 一夜四バグ、四捷四报。

三、峰上の連営

同じ夜に三寨を连拔した——カーブエディタ——JNI シンボルがまず extern "C" 块の外に落ち、置换目標も合わず、setLocalAdjustNative の横に手で补って初めて登録された。途中「パネルのスクロール位置」に何度か骗された（カーブはずっと正常だった。深い V 对 リニアプリセット、29.89% のプレビュー変化で最终定量）。HSL 二参数——挿入点が一时、上の関数体内に落ち、修正後に飽和 +0.6 展宽 30.7→36.3、明るさ +0.6 平均 133→161。選点调整——画面をタップ後 11% のプレビュー変化、色生长选域と局部パラメータが打通。

尾声

この夜最も尊いのは四個の源が系って灯ったことではなく、あらゆる「失效」が同じ規律に受け止められたことだ——先に非ゼロの基线を敷き、それからスクリーンショットで定量し、ダメなら复位して测り直す。マッティング长征に奇跡はない。基线しかない。 機能E（書き出し增强）の営は、すでに次の地平线に立ちかけている。

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